之所以孙祖杰这么牛逼轰轰，敢做这样的赌博，就是因为孙祖杰在八十年代投资启动研究的几款激光器，尤其是ArF193nm激光器终于在1997年开发成功，这是一个具有战略意义的重大突破。

而最先进的极紫外光EUV技术，华国经过长期不懈的攻关，目前也已经取得了不少的成果。

之所以在光源上取得突破，原因就是华国的激光技术一直处于世界一流水准。有了不少投资，又有了明确的方向，取得发展是必然的。

华吉光电所搞出的激光器虽然功率低了一些，但是勉强可以使用，这也迫使倭美两国不得不陆续放弃了对华国在这一领域的技术封锁。

孙祖杰对他们取得的成功非常高兴，华投紧接着又拨给他们一千万华元资金，要求ArF193nm激光器必须达到西方同等水平。

但是光源只是光刻机一小部分，作为最尖端的机电一体化产品，华国自产的光刻机最大的问题就是套刻精度不够和生产效率不行。

套刻精度与光刻分辨力密切相关。如果要达到0.10μm的光刻分辨力，根据33%法则要求套刻精度不低于0.03μm。

套刻精度主要与工件台和掩模台定位精度、光学对准精度、同步扫描精度等因素有关，定位精度、对准精度和同步扫描精度分别约为套刻精度的15～13，即0.006～0.01μm。

而提高生产效率是光刻机实现产业化的必要条件。为了提高生产效率，必须优化设计激光器输出功率、重复频率、曝光能量控制、同步扫描等各个技术环节，并采用先进技术尽量减少换片、步进和光学对准等环节所需时间。

要想能够完善所有环节，必须用漫长的时间去摸索，调试，这就需要大量的投资。虽然欧派微芯出钱，各大学和几大光学所出技术，花了无数的钱，但是因为华国整体工业实力的不足，华国国产光刻机为了提高套刻精度，还是不得不降低生产效率。

华国九十年代研发的1微米前道光刻机相比于进口产品，效率一直差得比较多，就是这个原因，所以为了提高生产效率，孙祖杰很早就想到了阿斯麦的双工作台。

双工作台系统，使得光刻机能在一个工作台进行曝光晶圆片，同时在另外一个工作台进行预对准工作，并在第一时间得到结果反馈，这样生产效率可以提高大约35%，精度提高10%以上。

但是双工件台系统虽然仅是加一个工作台，但技术难度却不容小觑，对工作台转移速度和精度有非常高的要求。

华国工程师从磁悬浮技术得到启示，利用华国在永磁体领域的领先，正在全力开发磁悬浮工作台，目前实验研究已经有了不小的突破，实验发现精度确实有了不小的提高。

现在有了193nmArF光源，有了浸没式光学镜头，又有了双工作台的突破，专家们经过研究认为根本没有必要再跟着西方的技术路线亦步亦趋，欧派微芯完全可以直接攻关0.1微米左右线程的浸没式光刻机。

因为使用193nmArF光源的浸没式光刻机，波长直接缩短为134nm，这样新型光刻机可以直接从0.1nm左右线程起步，再通过光学邻近效应矫正等技术后，其极限光刻工艺节点甚至可达28nm。

要知道在1997年，此时主流的光刻机线程也不过0.25微米，采用的还是KrF248nm光源。而倭国正在研发的193nm干式光刻机线程也仅仅是0.18微米，下一步才是0.13微米，90nm。

也就是说采用另外一条技术路线的华国人有3到5年的宝贵追赶时间，有这个时间应该有机会取得突破。

只要这款光刻机被攻克，华国就很可能实现弯道超车，为此赌一把绝对是值得的，毕竟华投有了相应的技术积累。

除此之外，还有一个好处，那就是采用193nm干式光刻机到了65nm左右时，差不多快到极限了，而采用华国路线，线程可以直接到达30nm左右，都问题不大。

所以到达这段线程区间时，欧美要么更换光源全部推倒重来，要么与华国交换技术。前者需要大量投资，而后者有现成的技术，到时候除非资本家脑子短路了，否则他们一定会与华国交换专利。因此华国的技术路线，明显才是未来，那么现在投入再多，也是值得的。

就在1998年初，更换了身份之后的孙祖杰，以华投决策小组组长的身份，出席了新型光刻机的研发动员大会，林先生也参加了这次动员大会。

这几年林先生的研究团队精力都放在天翼那条0.5微米芯片生产线的调试和改进上，并没有权限知道华投在光刻机领域的那些秘密。

经过几年的合作之后，林先生的研究团队已经被认可，所以今天他才有资格出席今天的动员大会，参与到这款代表未来的光刻机研究。

林先生听着长吉光电所的同志公开新型光刻机的技术方案，简直不敢相信自己的耳朵。

什么时候内地已经攻克了浸没式光刻机，而且有了不止一代产品，那就说明他们很早就有这个思路，并已经实现，可是他们为什么又一直保密，没有对外公开？

不过转而一想，林先生也意识到了什么，这些年内地的半导体工业一直在追赶，而且速度很快。

九十年代初就宣称弄出了1微米光刻机，而到了95年已经攻克了0.5微米光刻机，所以欧美相继对华国解禁了一部分技术封锁，恐怕就是他们浸没式光刻机的效果。怪不得华国人一直对自己的国产光刻机极端保密，不愿意对外公开，原来是这个原因。

这样一来，他的兴趣猛然间大了很多，他怎么也没有想到他的思路竟然在内地已经成型，这太让人兴奋了。

尤其是当他知道孙祖杰根据他八十年代的论文，才启动的研发时，更是高兴的不得了，

“孙总助，墙里开花墙外香，我们华人能够有这样的追赶机会，而且我还在其中起到了一些绵薄之力，真是与有荣焉！”

孙祖杰笑着点点头，林先生提出理论，内地科学家研发出来，然后还把理论提出者请过来帮着研究，这是一件多么让人幸福的事情呀！

几年以后，华国一旦取得突破，到时候就热闹了，美帝要么选择华国路线；要么选择倭国路线，无论哪一点都是他们不乐意的，而且无论哪一点都没有桃花岛的份。

这样一来，桃花岛在芯片代工业领域的领先将会受到很大的限制，这也为华投的追赶铺平了道路。

光刻机一旦突破，就意味着电子产业的制高点被华国突破，华国将更加从容更加自信的开展其他芯片制造设备的研究，为此就算这四百亿华元花光了也是值得的。

而光刻机领域的一些技术成果，同样可以应用到其他领域，比比如联合船舶，他们的造船技术进步很快；比如华夏重工，他们根据俄罗斯的技术转移和华投的一些研究成果，已经研究出第一代华国五轴中心。

尽管第一代产品精度有些欠缺，但已经解决了相当一部分军工领域的需求。华夏重工的技术突破，对于华国的军工制造业和重大装备制造业的意义重大。

所以孙祖杰才非常有底气的拒绝继续给军产部提供资金，而且对这一类特殊商品提出了非常高的报价，有本事你们可以不买呀。

在九八年的年初，经过几次催讨，确信已经得不到拨款的军方大佬们对此十分恼火，但是研究之后又不得不妥协。

原因就是军工要发展，必须要购买华夏重工大量的高性能机床，这是此时华国唯一的供货商，而这类机床想进口更是门都没有。

而且不仅仅华夏重工，欧派微芯和联合超算也牛得一塌糊涂，军工所必须的多款高端芯片，他们也必须依赖欧派微芯的制造。另外还有一些特殊涂料，他们的报价正好卡在点上，让你气得半死，还不买不行。

军方的大佬们迷惑了，什么时候华投已经发展到这种程度，可以要挟军方了？越想越窝火的大佬们，对着总装领导大发牢骚，你们也太不争气了，搞军工的竟然技术不如搞民品的企业，你们到底是干什么吃的。

总装的领导有些苦涩，尽管这两年拨款多了不少，但缺课太多了，他们只能把有限的资源投资到最重要的领域。

军工芯片和高精尖的机床制造只能依赖于华投，而且不仅仅是现在，未来这种依赖性可能更加严重。

因为华投现在的科研投入太大了，他们的科研经费又不打一点折扣，使用效率比军工系统高了很多，这样一来，未来华投系企业很可能比军工系统的同类型企业要强大的多得多。

所以总装领导无奈的告诉军方的大佬，咱们手下的那些亲儿子已经远不如送出去的这群野孩子，对华投系企业现在不仅要一碗水端平，而且还要更加重视，不然华投的幺蛾子会越来越多。现在孙祖杰找茬，只是要求一碗水端平，已经很不错了，习惯就好，习惯就好。